Shohei Ohtani continuará en la alineación de los Dodgers de Los Ángeles para el tercer partido de la Serie de Campeonato de la Liga Nacional, luego de conversar con el dirigente Dave Roberts y asegurarle que se siente en condiciones de jugar.
La permanencia del japonés se produce en medio de las dudas por su producción ofensiva durante la postemporada de 2026, en la que batea para .150. Según reportes de The Athletic, el equipo había evaluado darle descanso y colocar en su lugar al prospecto dominicano Josué de Paula.
Roberts confirmó que Ohtani está preparado para salir al terreno. «Está firme, se siente lo suficientemente bien como para estar ahí», expresó el dirigente, según declaraciones publicadas por MLB.
El capataz también manifestó que el jugador está cerca de encontrar los ajustes necesarios en su swing, por lo que mantiene la confianza en que pueda recuperar su aporte ofensivo en un momento importante de la serie frente a los Cerveceros de Milwaukee.
Ohtani suma tres imparables en 20 turnos oficiales, con siete ponches y tres bases por bolas, además de no haber conectado extrabases en la postemporada. Su falta de cuadrangulares también genera preocupación entre los Dodgers, de acuerdo con los reportes citados.
Josué de Paula, una alternativa para los Dodgers
La posibilidad de que Ohtani descansara abrió espacio para el dominicano Josué de Paula, quien tuvo números destacados durante la temporada regular y figura como una alternativa para ocupar el puesto de bateador designado.
El prospecto bateó para .323 en 31 turnos oficiales, conectó un cuadrangular e impulsó siete carreras. También recibió 11 bases por bolas y registró un OPS de 1.081.
Aunque la conversación entre Ohtani y Roberts despejó, por ahora, las dudas sobre su presencia en la alineación, De Paula se mantiene como una opción si el equipo necesita modificar su estrategia.
Los Dodgers esperan que el japonés encuentre su ritmo ofensivo en esta etapa decisiva, mientras el joven dominicano aguarda una oportunidad para demostrar su capacidad en un escenario de alta exigencia.
